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低誘電率・高絶縁耐力プラズマ堆積a-C:F膜による機器絶縁の軽量化と耐電圧向上

低誘電率・高絶縁耐力プラズマ堆積a-C:F膜による機器絶縁の軽量化と耐電圧向上

書籍データ

平成17年度〜平成19年度科学研究費補助金(基盤研究(B))研究成果報告書

著者名:研究代表者 酒井洋輔他の作品を見る

出版社:北海道大学大学院情報科学研究科

発売日:2008.4

1冊 30cm

ISBN:

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