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新しいレジスト材料とナノテクノロジ- (エレクトロニクス材料・技術シリーズ)

ノースブックセンター
 東京都八王子市越野　8-23
￥15,885 （送料：￥350～）
山岡亜夫、シーエムシー出版、2002年11月1日（発売年月日の記載となります、版・刷等について気にな･･･
天：押印▲ 全体的に多少の使用感・経年感、キズ・ヤケ・シミ等の傷み
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新しいレジスト材料とナノテクノロジ- (エレクトロニクス材料・技術シリーズ)

新しいレジスト材料とナノテクノロジ- (エレクトロニクス材料・技術シリーズ)

￥15,885 （送料：￥350～）
山岡亜夫 、シーエムシー出版 、2002年11月1日（発売年月日の記載となります、版・刷等について気になる際には別途お問い合わせください） 、253 、単行本
天：押印▲ 全体的に多少の使用感・経年感、キズ・ヤケ・シミ等の傷み
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ノースブックセンター

フォトポリマー・テクノロジー

フォトポリマー・テクノロジー
四方堂書店
 埼玉県所沢市荒幡
￥1,800 （送料：￥600～）
山岡亜夫/永松元太郎 編、日刊工業新聞社、1988年1刷、672p、A5、1冊
大学除籍本(除籍印あり)／裸本／表紙擦れ・ラベル／小口インク汚れ、天地に蔵書印消痕、後ろ見返しに貸出カード、タイトル頁に蔵書印／本文の状態は概ね良好
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フォトポリマー・テクノロジー

￥1,800 （送料：￥600～）
山岡亜夫/永松元太郎 編 、日刊工業新聞社 、1988年1刷 、672p 、A5 、1冊
大学除籍本(除籍印あり)／裸本／表紙擦れ・ラベル／小口インク汚れ、天地に蔵書印消痕、後ろ見返しに貸出カード、タイトル頁に蔵書印／本文の状態は概ね良好
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秋山真之
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