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「低誘電率・高絶縁耐力プラズマ堆積a-C:F膜による機器絶縁の軽量化と耐電圧向上」の検索結果

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低誘電率・高絶縁耐力プラズマ堆積a-C:F膜による機器絶縁の軽量化と耐電圧向上

低誘電率・高絶縁耐力プラズマ堆積a-C:F膜による機器絶縁の軽量化と耐電圧向上

平成17年度〜平成19年度科学研究費補助金(基盤研究(B))研究成果報告書

研究代表者 酒井洋輔、北海道大学大学院情報科学研究科、2008.4

1冊 30cm

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