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「省電力LSI用高誘電率ゲート絶縁膜の薄膜スケーリング手法の構築」の検索結果

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省電力LSI用高誘電率ゲート絶縁膜の薄膜スケーリング手法の構築 <科学研究費補助金(基盤研究(B))研究成果報告書>

省電力LSI用高誘電率ゲート絶縁膜の薄膜スケーリング手法の構築 <科学研究費補助金(基盤研究(B))研究成果報告書>

平成18年度~平成19年度科学研究費補助金(基盤研究(B))研究成果報告書

研究代表者 中島寛、九州大学、2008.5

1冊 30cm

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